StellarNet Thin film薄膜測量系統產品概述：

薄膜量測是現代光學鍍膜、半導體器件、顯示器件、光伏材料以及高性能功能化表面研發與生產環節的重要手段。對膜層厚度、光學特性以及鍍膜均勻性開展精準表征，有助于保障產品性能、工藝穩定性以及生產良率。

StellarNet 薄膜量測系統融合先進光譜分析與光譜反射檢測技術，配套高性能光譜儀、光學配件以及功能優異的分析軟件，實現各類薄膜與鍍膜樣品檢測。該設備平臺適配光學鍍膜表征、半導體量測、工藝監控以及前沿材料研究，可應用于科研、生產、質量控制等多種場景。

薄膜厚度測量：

采用非接觸式光譜光學技術測量薄膜與涂層厚度，適用于光學鍍膜、半導體器件、顯示器件以及前沿材料研究場景。

反射?透射光譜法

通過分析反射光信號，測定薄膜厚度與光學特性。可對鍍膜開展表征及工藝監控，檢測速度快、結果準確。

行業應用：

了解薄膜測量系統如何服務于多行業的科研、生產以及質量控制工作。

可測量半導體制造中的各類薄膜、介質層、光刻膠以及沉積涂層，支持晶圓表征、工藝監控與質量控制。

太陽能與光伏測量：

借助光譜光學技術分析薄膜太陽能電池、光伏鍍膜及能源材料，可用于研發以及生產質量驗證。

顯示技術測量

對 LCD、OLED 以及 Micro?LED 顯示屏所用薄膜與涂層開展表征，支持工藝開發、質量保證以及顯示性能評估。

光子器件測量采用非接觸薄膜量測與光學表征技術，對硅光子學器件、光子集成電路（PIC）、光波導、激光光學器件以及量子光子器件開展表征。

光學鍍膜測量可對增透膜、光學濾光片、反射鏡以及激光光學元件進行表征。借助光譜量測技術，核驗鍍膜厚度、均勻性以及光學性能。

StellarNet Thin film薄膜測量系統選型表：

顯微測量系統：

技術規格：